制造商: 日本
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IC激光修調工藝設備

激光封焊設備

晶圓激光退火設備

晶圓激光劃片剝離設備

金屬電鍍工藝設備

PARYLENE鍍膜設備

高精度貼片機

旋涂機

平行縫焊機

離子污染測試儀

噴涂點膠機

固化設備

金屬剝離濕法工藝設備

開帽機

全自動機型(多層電鍍)

全自動晶圓電鍍系統
制造商: 日本
主要功能: 適用于多層電鍍的全自動電鍍系統

  •        電鍍過程是金屬化的過程,通過全密閉單片式電鍍腔體,將電鍍液中的金屬離子電鍍到晶圓表面,以形成金屬互聯。導電電極會連接至晶圓,采用電鍍工藝沉積金屬至晶圓上圖案化的溝槽內而形成金屬層(又稱為金屬薄膜)中的金屬線,例如形成銅線,或者金線。
           此電鍍設備可運用于多種晶圓材料如Si、InP、GaAs、GaN、LiNbO3、SiC等,也可做電鍍Au、Cu、Ni、Sn、Ag等多種金屬的單層或多層電鍍工藝。
           同樣適用于多種電鍍工藝,如凸塊,RDL,通孔,盲孔,深孔等工藝需求,擁有出色的均勻性。
           根據工藝需求,可提供配套的電鍍藥水。
     

           該全自動型主要針對多層電鍍,采用機械手自動上下料,以2個CUP槽體為單位可以無限增加,Prewet,QRD,SRD等功能,可實現干進干出。

          

  • 1,配備高性能攪拌電鍍
    2,單片水平封閉式槽體設計
    3,更適合多層電鍍
    4,配備陰極清潔系統
    5,更換電鍍液便捷
    6,電鍍槽以2槽為單位可無限增加
    7,完整的數據記錄
    8,將活動部件減至最低以減少灰塵
    9,根據客戶需求靈活配置



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